一人で！簡単に！これ1台で多様な走行式成膜実験が可能に！
小型 RtoR スパッタリングシステム
＜ミニ実験室 Ｓ SMZ−SPTＶ001＞
当社の小型 ﾛｰﾙto ﾛｰﾙ スパッタリングシステム[ミニ実験室 S]はフィルム等フレキシブル基材用途の走行式成膜実験装置です。
簡単なユニット交換で多様な成膜プロセスの実験が これ一台で可能になりました。
今迄の走行式装置では望めなかった、研究室等での実験準備・実験機操作・メンテ等全ての作業が短時間に一人で行えます。
- RtoRスパッタ装置では最小サイズを実現！
- 低温低ダメージ成膜を可能にする対向スパッタの実験に加え！
- 広く生産現場で使用されているマグネトロンスパッタも実験可能に！
- 小型化により ランニングコストの大幅ダウンを実現しました！
- 更に、多様なプロセスへのアプローチを可能にする拡張性！
対向スパッタユニット搭載
マグネトロンスパッタユニット搭載
１）真空走行系ユニット
走行方式 |
正転／逆転切替方式（走行張力５N〜２０N） |
走行スピード |
0.1〜5.0m／min (＊1) |
ＤＣ電源 |
Max 800W（1φ AC100V使用） |
ガス導入 |
Ar用×1系統（デジタル表示ニードルバルブ 0〜50sccm） |
真空排気機構 |
TMP 220L／sec ＋ RP 240L／min |
到達真空度 |
１０-4Ｐａ台 |
到達時間 |
大気圧⇒ １×１０-3Ｐａ以下まで 40min以内／基材無し |
真空計 |
デジタル表示フルレンジ真空計 × 1 |
ユーティリティ |
所要電力：1φ AC100V 50/60Hz 2.5KVA |
付属機構 |
バタフライバルブ・のぞき窓 ｘ 4ヶ所 |
予備ポート |
NW25・ICF70等 最大8個迄ご要望により設定可 |
外形寸法・重量 |
W 1,100mm ｘ D 1,100mm ｘ H 1,100mm 400Kg |
２）スパッタ源ユニット
成膜方式 |
対向カソード方式 |
マグネトロンカソード方式 |
使用基材サイズ |
フィルム・各種金属箔：t=25〜125μm×w50mm×Coil |
フィルム・各種金属箔：t=25〜125μm×w100mm×Coil（50mm幅も使用可能） |
ターゲットサイズ |
56mm×106mm （2枚／式） |
56mm×106mm （1枚／式） |
ターゲット材質 |
Cu・AL・Ti・Nb他 金属全般 |
同左 ｛但し 磁性体を除く｝ |
成膜レート |
150nm （＊2） |
295nm （＊2） |
成膜分布（±10％） |
幅方向 20mm |
幅方向 30mm |
成膜温度 |
60℃以下／｛但し Cu成膜厚300nm時｝ |
80℃以下／｛但し Cu成膜厚300nnm時｝ |
（＊1）0.03〜0.1m/min設定可能 （＊2）但し DC800W 100mm/min走行 Cu成膜時
（＊3）幅方向40mm （＊4） 幅方向90mm＜膜厚調整板により可能＞
このカタログの内容は予告なしに変更する場合がありますので、あらかじめご了承下さい
08.6.1
小型スパッター「ミニ実験室 Ｓ」に関するお問合せ
株式会社 清水製作所
（大久保事業所/京都薄膜応用研究所）
TEL/FAX：0774-44-9221
営業 藤吉裕一
〒611-0333 宇治市大久保町西ノ端1-25-5
京都フェニックス・パーク 宇治VIF内
E-mail：fujiyoshi@shimizu-mfg.com
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